マスクレス露光装置
| 機器通称 | マスクレス露光装置 | 保管場所 | E棟1F計測センター |
|---|---|---|---|
| メーカー | ネオアーク(株) | 型式(規格) | PALET DDB-701-DL |
用途
半導体集積回路・超電動素子・スピントロニック素子・MEMS（微小電気機械システム）・マイクロ流体素子等の作製に必要となるミクロンオーダーの微細パターン作成に使用する。
特長
CADパターンやビットマップを読み込み、マスク不要のフォトリソグラフィーを実現
主要性能
- 対物レンズ：10倍
- 露光用光源：365nm(typ.)高輝度 LED
- 観察用光源：650nm(typ.) LED
- 最小露光線幅：3μm
- 1ショットあたりの露光サイズ：約1ｍｍ×0.6ｍｍ
- 最大露光領域：25ｍｍ×25mm
- 露光時間：1秒以下（参考）
- 対応ファイルフォーマット：画像データ（JPEG / PNG / BITMAP）、パワーポイントデータ（XPS）、CADデータ（DXF）
ステージ仕様
- 方式：電動
- 可動範囲（XYZ）：25mm✕25mm✕5mm
- 位置分解能： XY：0.1μｍ、Z：0.5μｍ電気特性