イオンスパッタ

概 要

本装置は、導電性のない試料（生物試料など）を走査電子顕微鏡で観察する際に、試料表面の帯電による像障害を防止するために2～15 nm程度の金属を試料表面にコ－ティングするイオンスパッタである。

本装置はダイオ－ド放電を利用しており、チャンバー内のプラズマはプラスイオンと電子で構成され、プラスイオンはマイナス電位のターゲットに入射しターゲット材料をスパッタし、中性原子を全方向に飛散させる。このとき飛翔中の中性原子は残留ガス分子と衝突を繰り返し試料ステージに様々な角度から降り注いで試料表面を均一にコーティングすることができる。

基本性能

• 放電方式：ダイオード放電　電極形状：リング(φ63 nm)
• 放電電圧：DC 2.5 kV、0.5 kV　電流：DC 0～30 mA
• コーティングレート（最大値）：Au 10nm／min
• 試料：最大直径50mm、最大試料高さ：15mm