実験例 その2
pMOSインバータの製作
1.WaferのCleaning
- アセトンで表面の汚れを落とす。
- トリクロロエチレン、アセトン、洗浄液、純水の順に超音波洗浄器で各2min洗浄する。
- 鏡面を上にして炉芯管の出口上で乾燥する。
2.酸化(ウエット酸化)
- 酸化炉1200℃,加湿器60℃で行う。
- 炉の使用10min前に酸素ガス(0.8L/min)を流しておくこと。
- (3)ウエット酸化を2時間30分行う(膜厚成長率 20Å/min)
「Å:オングストローム 1Å=10-10m=0.1nm=100pm と定義されている。」
3.PhotoresistのCoat
- スピナーは1stが1000rpmで4sec、2ndが4000rpmで20sec行う。
- Pre-Bakeは80℃で30min行う。
4.目合わせ(S-D Pattern Print)
- 目合わせ装置は使用10min前に水銀ランプの電源を入れること。
- 露光時間は3sec。現像、リンスは各2min行う。
- Post-Bakeは150℃で30min行う。
「失敗の時は6.の処理を行い3.から行う。」