卓上型ランプ加熱装置
概要
試料をフォーミングガス（3%H2，97%H2）中でアニールするために使用する加熱装置です． ロータリーポンプで真空引きをしながらフォーミングガスを流しつつ加熱するため，酸化しやすい試料のアニールが可能です． 不純物拡散のためのアニールや，電極のアロイング，銀ペーストなどのシンタリング処理で使用します．
仕様
| 名称 | 卓上型ランプ加熱装置 |
|---|---|
| 型式 | MILA-5000 |
| メーカー | アドバンス理工株式会社 |
| 加熱方式 | 赤外線加熱 |
| 試料サイズ | 20 mm × 20 mm × 2 mmtまで |
| 温度範囲 | RT～800℃ |
| 排気 | ロータリーポンプ |
| 導入ガス | フォーミングガス（3%H2，97%H2） |
| ガス流量 | 0～10 sccm |