半導体デバイス
製作実験センター

拡散炉

拡散炉炉

概要

モルダサームLGOヒータの採用で、温度追従性に優れリカバリ特性の良好なモデルです。
 3ゾーンすべてに過熱防止計を採用した高性能タイプの卓上型チ ューブ炉(管状炉)です。
 (上)ホウ素を拡散する装置です。
 (下)ニッケルを拡散する装置です。

仕様

会社 光洋サーモシステム株式会社
加熱方式 電気抵抗加熱
最高使用温度(℃) 1200
常用使用使用温度(℃) 400~1100
電源(φ、V) 3φ、220V
設備電力(W) 7100
安全装置 過熱防止計
温度制御システム 3ゾーン制御
電力調節器 SSR
熱電対 PL-Ⅱ
電源ケープル 3芯ケープル(アース線含む)
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