半導体デバイス
製作実験センター

真空蒸着装置膜厚計測型Ⅰ

真空蒸着装置膜厚計測型Ⅰ

概要

主に電子顕微鏡のコロジオン膜のカーボン補強膜、カーボンレプリカ膜、シャドウイング及び金属蒸着膜等の試料作成に用いられるレプリカ法用真空蒸着装置として製作されたものでありますが、 一般の実験用、工業用蒸着装置としても広く利用することができます。
非導電性物質の観察には試料表面の導電処理を必要としますが、 本装置は蒸着過程で試料表面を蒸発源に対して傾けたまま回転し、また傾きの方位も回転する試料台、いわゆるジンバル機構を備えています。
したがって、複雑な形状の試料も薄い均一な導電膜を得ることができます。 (左)金を真空蒸着装置です。(右)鉄を真空蒸着装置です。

仕様

型番 SRK-42
名前 2連高真空蒸着装置
会社 株式会社 東京真空
真空度 到達10-6Torr(常温)
常用10-5Torr(常温)
排気速度 大気圧→10-6Torr/15min(常温)
排気系 65^A (2.5インチ)油拡散ポンプ排気系
蒸着方式 抵抗過熱方式
蒸着用端子 30A用電極2対(フィラメント用電極1対、カーボン用電極1対)
切換スイッチ付き
試料ホルダー φ14×4ヶ用、φ26×1ヶ用各1個付き
シャッター シャッター機構、遮蔽板付き
試料装着 ベルジャー上下、旋回方式
操作方法 手動操作
外形寸法 装置面積 W600×D850×H1300
装置本体 W600×D400×H1300
油回転ポンプ W550×D300×H450
重量 総重量 約150kg
装置本体 約110kg
油回転ポンプ 約40kg
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