半導体デバイス
製作実験センター

1200℃チュープ炉

1200℃チュープ炉

概要

モルダサームLGOヒータの採用で、温度追従性に優れリカバリ特性の良好なモデルです。
 3ゾーンすべてに過熱防止計を採用した高性能タイプの卓上型チ ューブ炉(管状炉)です。
 酸化膜を作る装置です。

仕様

会社 光洋サーモシステム株式会社
型式 KTF647
加熱方式 電気抵抗加熱
炉内寸法(mm)[φ×L] 155×610
適応チュープ外径(mm)[φ×L] φ150
外形寸法(mm)[W×H×D] 940×810×530
最高使用温度(℃) 1200
常用使用温度(℃) 400~1100
電源(φ、V) 3φ、220V
設備電力(W) 7100
重量(kg) 165
安全装置 過熱防止計
温度制御システム 3ゾーン制御
電力調節器 SSR
熱電対 PL-Ⅱ
電源ケープル 3芯ケープル(アース線含む)
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